Optimización del proceso de fabricación de películas delgadas de rutenio y óxido de rutenio
Se fabricaron películas delgadas de rutenio por la técnica de depósito de capa atómica (ALD) usando Bi(etilciclopentadienil) rutenio (Ru(EtCp)2) como precursor y ozono (O3) u oxígeno (O2) como agente oxidante. Se utilizó silicio (100) recubierto con óxido
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Autor principal: | Solorio Soto, Fernando |
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Otros Autores: | Tiznado Vázquez, Hugo Jesús Muñoz Muñoz, Franklin David |
Lenguaje: | spa |
Publicado: |
2021
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Materias: | |
Etiquetas: |
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